稀土拋光材料研究室成立於2009年 ，主要結合國家發展需要和行業發展情況 ，以稀土基高端拋光粉體和拋光液的研製及產業化為目標 ，研製用於光學鏡頭 、藍寶石加工 、硬盤盤基片 、半導體和集成電路等領域的專用高端拋光材料 。本研究室以材料的表面平坦化為目標 ，緊跟市場發展步伐 ，開發具有自主知識產權的稀土拋光材料（拋光粉/液）; 拋光材料研究室積極申報和承擔各級科研計劃項目 ，同時與生產企業開展廣泛的合作 ，目前已與生產企業建成60噸/年的粉體中試生產線一條 。
隨着液晶顯示技術的發展 ，蘋果 、三星和華為等國內外通訊巨頭公司正在將3D玻璃逐漸取代平面蓋板玻璃 ，光學玻璃用稀土拋光液和集成電路用稀土拋光液急劇增加；本研究室的研究領域如下 ：
     （1）小粒徑 、窄分佈高端鈰基拋光粉體的開發 ：開發D50在0.1µm 、0.2µm 、0.5µm 、0.8µm和1.0µm等不同型號的精細拋光粉體 ，在光學和液晶顯示領域廣泛應用 ，為下一步拋光液的開發提供技術支撐 。
     （2）光學用稀土拋光液的開發 ：開發D50為0.8µm的高切削率拋光液 。
     （3）半導體晶圓用拋光液的開發 ：開發D50為0.1µm~0.2µm的高切削率拋光液 。
     （4）集成電路用稀土拋光液的開發 ：開發D50為0.08µm的高端精密拋光液 。